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脉冲式的Nd:YAG镭射荡涤的进程依赖于镭射器所发生的光脉冲的特征，在高强度的光束、短脉冲镭射及净化层之间的互相作用下所招致的光物理反响。它的物理原理可归纳综合以下6点：
　　1）光脉冲的宽度必需足够的短，能力防止使被处置名义受到立坏的热积聚。

　　2）壮大的打击波使净化物酿成碎片并被剔除。

　　3）试验证实当金属名义上有氧化物的时分，等离子体就会发生于金属名义。

　　4）镭射器发射的光束被须要处置名义上净化层所排汇。

　　5）大能量的排汇构成急剧收缩的等离子体（高度电离的不波动气体），发生打击波。

　　6）每个镭射脉冲去除必定厚度的净化层。假如净化层比拟厚，则须要多个脉冲进行荡涤。将名义荡涤清洁所须要的脉冲数目取决于名义净化水平。由两个阈值发生的一家首要成果是荡涤的自控性。能量密度高于第一阈值的光脉冲将不断剔除净化物，直达到到基底资料为止。但是，由于其能量密度低于基底资料的立坏阈值，以是基底不会遭到立坏。

　　等离子体只在能量密度高于阈值的情形下发生，这家阈值取决于被去除的净化层或氧化层。这家阈值效应答在保障基底资料保险的情形下进行无效干净十分首要。等离子体的涌现还具有第二个阈值。假如能量密度高出这一阈值，则基底资料将被立坏。为在保障基底资料保险的条件下进行无效的干净，必需依据情形调剂镭射参数，使光脉冲的能量密度严厉处于两个阈值之间。